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內(nèi)孔拋光技術(shù)：磨粒流內(nèi)孔拋光工藝說明
內(nèi)孔拋光技術(shù)目前也是比較多的，但是針對精密工件內(nèi)孔拋光，需要顯著提升光潔度、降低粗糙度，且需要均勻、高效，在這種情況下，使用什么工藝好呢？我們來介紹一種新型的，利用磨粒流體進行內(nèi)孔拋光的工藝！
磨粒流內(nèi)孔拋光原理介紹：
如視頻所示，針對內(nèi)孔內(nèi)壁的流體拋光，是一種物理拋光方式，利用彈性軟磨料進行擠壓研磨，從而提升內(nèi)壁光潔度。彈性軟磨料經(jīng)過增壓系統(tǒng)后，擠壓進入工件孔內(nèi)，進行精細研磨。磨料類型通常為高分子碳化硅軟磨料，鉆石軟磨料等。
控制方式：
通過PLC控制，可調(diào)節(jié)參數(shù)包括壓力、時間、流速等。參數(shù)可記憶保持，以便于下次調(diào)用。
磨粒流內(nèi)孔拋光效果說明：
通過磨粒流拋光后的內(nèi)壁光潔度，可以在原有基礎(chǔ)上，提升3-5個檔次，如原始粗糙度是0.8，可以拋到0.2或以下；原始粗糙度是0.2，可以拋到0.05或以下。內(nèi)孔原始光潔度越高，使用流體拋光后的光潔度就更容易提升！甚至可以達到超精密水準！
效率說明：
一般金屬工件，每次拋光時間在3-5分鐘，根據(jù)工件尺寸，每次拋光的數(shù)量不一樣，越小的工件，每次可以拋光的數(shù)量越多。
如果是硬質(zhì)合金工件，拋光時間要長一點，一般在10-40分鐘不等。
磨粒流內(nèi)孔拋光優(yōu)勢說明：
1、精度高、精度可控，不傷工件；
2、物理拋光，沒有腐蝕性；
3、可處理各種微細孔、異型孔、交叉孔；
4、效率高，效果均勻且徹底。