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塑料模具常用的拋光方法
隨著塑料制品日溢廣泛的應(yīng)用,如日化用品和飲料包裝容器等,外觀的需要往往要求塑料模具型腔的表面達到鏡面拋光的程度。而生產(chǎn)光學(xué)鏡片、鐳射唱片等模具對表面粗糙度要求極高,因而對拋光性的要求也極高。拋光不僅增加工件的美觀,而且能夠改善材料表面的耐腐蝕性、耐磨性,還可以使模具擁有其它優(yōu)點,如使塑料制品易于脫模,減少生產(chǎn)注塑周期等。因而拋光在塑料模具制作過程中是很重要的一道工序。 目前常用的拋光方法有以下幾種:
1,機械拋光
機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺等輔助工具,表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運動。利用該技術(shù)可以達到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中最高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。
2,化學(xué)拋光
化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制?;瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。
3,電解拋光,
電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步:
(1)宏觀整平:溶解產(chǎn)物向電解液中擴散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。
(2)微光平整:陽極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。
4,超聲波拋光
將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,再施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程,利于表面光亮化。
5,流體拋光
流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅(qū)動,使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。
流體拋光機的工作原理
效果
流體拋光機-突破傳統(tǒng)加工模式以擠壓流動方法,針對異形、不規(guī)則表面及內(nèi)孔或細縫、微孔工件達到鏡面拋光及去毛邊效果。
技術(shù)
流體拋光技術(shù)是采用*新研磨拋光工法,可依照各種不同技術(shù)要求,做細部研磨處理。亦可依不同材質(zhì)特性及前制處理狀況達到鏡面拋光*終目標(biāo)或解決表面處理附著困難問題。
原理
其原理為以軟性樹脂+高流動性液態(tài)膠后依研磨或拋光需求選擇加入研磨顆粒。制成一種非常特殊軟性流動磨料,具有流動性及包覆高含量研磨粉特性下以上下運動方式通過工件表面。
方式
流體拋光是將工件置于機器工件臺面,以治具夾持后機器上方磨料缸及固定座以油壓缸向下緊密固定后,中間上下磨料缸將磨料充滿后;下方往上方是流動到達頂部后再由上往下流動。以此上下往復(fù)運動方式,在選擇流動次數(shù)及流動量達到拋光效果。
流體拋光機特點
適應(yīng)范圍廣,加工效率高,操作方便。流體拋光機用不同粒度粘度的磨料,選擇合適的工藝參數(shù),在腔體壓力作用下經(jīng)2-5分鐘流體拋光后,可使零件表面粗糙度在原來的基礎(chǔ)上提高2-4級,高粗糙度可達到0.04,精度控制在微米級別。磨粒流體拋光機不僅適用于單件生產(chǎn),配合相應(yīng)夾具進行大批量加工生產(chǎn)。
磨粒流體拋光機的磨料
磨料是流體拋光機的核心技術(shù)之一,研磨磨料指標(biāo)包括磨料粘度、磨料粘料和拉度大小。研磨磨料按粘度可分為不同粘度的磨料。蘇州普茨邁磨粒流的磨料采用德國進口,適用壽命長,加工精度高,效果尤為出眾。
6,磁研磨拋光
磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質(zhì)量好,加工條件容易控制,工作條件好。采用合適的磨料,表面粗糙度可以達到Ra0.1μm。