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金屬工件拋光方法：流體拋光對(duì)比化學(xué)拋光
拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆?；蚱渌麙伖饨橘|(zhì)對(duì)工件表面進(jìn)行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時(shí)也用以消除光澤（消光）。通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成，兩側(cè)用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。
1. 化學(xué)拋光
其優(yōu)點(diǎn)是加工設(shè)備投資少，可拋出復(fù)雜零件，速度快，效率高，防腐效果好。它的缺點(diǎn)是亮度差，氣體溢出，需要通風(fēng)，加熱困難。適用于加工小批量的雜類零件和對(duì)發(fā)光要求低的產(chǎn)品的小零件。
化學(xué)拋光是指在化學(xué)介質(zhì)中比凹面更好地溶解材料的宏觀凸出部分，從而獲得光滑的表面。該方法的重要優(yōu)點(diǎn)是可以在不需要其他設(shè)備的情況下對(duì)大量工件進(jìn)行拋光，同時(shí)可以對(duì)多個(gè)工件進(jìn)行拋光?；瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的制備?；瘜W(xué)拋光獲得的表面粗糙度一般為10μm。
電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩個(gè)步驟：
（1）宏觀平整溶解產(chǎn)物分散到電解液中，材料表面的幾何粗糙度降低，Ra>1微米。
（2）低光平板陽(yáng)極極化，增加外部亮度，如垃圾和GT；1μm。
2.流體拋光機(jī)
流體拋光機(jī)是一種、環(huán)保型干式研磨表面處理設(shè)備，機(jī)器的加工區(qū)由裝有研磨拋光介質(zhì)的不銹鋼磨料桶組成。在調(diào)速電機(jī)帶動(dòng)的回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上配有行星齒輪機(jī)構(gòu)，行星齒輪傳動(dòng)轉(zhuǎn)盤上懸掛著四個(gè)夾頭；夾頭用于夾持工件（如刀具、珠寶、首飾、表殼、醫(yī)療器械等工件）。轉(zhuǎn)盤通過(guò)夾頭帶動(dòng)工件進(jìn)行公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)，每個(gè)夾頭都可以單獨(dú)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；夾頭之間有一定間隙，杜絕了研磨時(shí)工件的相互碰撞。研磨作業(yè)時(shí)，旋轉(zhuǎn)的夾頭帶著工件緩慢向下插入到磨料桶中，直入工件需要加工的部分完全浸入磨料桶內(nèi)。回傳機(jī)構(gòu)在高速的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，工件與磨料產(chǎn)生無(wú)序、不間斷地摩擦，從而實(shí)現(xiàn)工件鈍化、研磨、拋光的效果。
流體拋光產(chǎn)品研磨
流體拋光
流體拋光依靠高速流動(dòng)的液體和磨粒來(lái)清洗工件表面，以達(dá)到拋光的目的。通常的方法包括磨料射流加工、液體射流加工、流體動(dòng)力磨削等。流體動(dòng)力磨削是由液壓驅(qū)動(dòng)的，它使載有磨料顆粒的液體介質(zhì)以高速流過(guò)工件表面。介質(zhì)主要由在低壓下流動(dòng)性好的特殊化合物（聚合物材料）制成，并與磨料混合。磨料可由碳化硅粉末制成。
鋅壓鑄件中有害雜質(zhì)鉛、鎘、錫會(huì)聚集在晶界處，引起晶間腐蝕。金屬基體會(huì)因晶間腐蝕而斷裂。電鍍加速了這一缺點(diǎn)。受晶間腐蝕影響的零件會(huì)膨脹，涂層會(huì)抬起，導(dǎo)致鋅合金壓鑄件表面起泡。
高質(zhì)量、高精度鋁合金鑄件可用于航空航天、汽車、精密機(jī)械等鑄件。鋁合金壓鑄制造商重視鑄件的精度和質(zhì)量。冷卻水在生產(chǎn)中經(jīng)常使用，這與質(zhì)量和精度有關(guān)。