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金屬工件拋光方法:流體拋光對比化學(xué)拋光

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編輯時間 : 2021-05-12
信息標(biāo)簽 : 流體拋光機(jī),流體拋光機(jī)價格

金屬工件拋光方法:流體拋光對比化學(xué)拋光


拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質(zhì)對工件表面進(jìn)行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度,而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的,有時也用以消除光澤(消光)。通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成,兩側(cè)用金屬圓板夾緊,其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。


1. 化學(xué)拋光


其優(yōu)點是加工設(shè)備投資少,可拋出復(fù)雜零件,速度快,效率高,防腐效果好。它的缺點是亮度差,氣體溢出,需要通風(fēng),加熱困難。適用于加工小批量的雜類零件和對發(fā)光要求低的產(chǎn)品的小零件。


化學(xué)拋光是指在化學(xué)介質(zhì)中比凹面更好地溶解材料的宏觀凸出部分,從而獲得光滑的表面。該方法的重要優(yōu)點是可以在不需要其他設(shè)備的情況下對大量工件進(jìn)行拋光,同時可以對多個工件進(jìn)行拋光?;瘜W(xué)拋光的核心問題是拋光液的制備?;瘜W(xué)拋光獲得的表面粗糙度一般為10μm。


電化學(xué)拋光過程分為兩個步驟:


(1)宏觀平整溶解產(chǎn)物分散到電解液中,材料表面的幾何粗糙度降低,Ra>1微米。


(2)低光平板陽極極化,增加外部亮度,如垃圾和GT;1μm。

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2.流體拋光機(jī)


流體拋光機(jī)是一種、環(huán)保型干式研磨表面處理設(shè)備,機(jī)器的加工區(qū)由裝有研磨拋光介質(zhì)的不銹鋼磨料桶組成。在調(diào)速電機(jī)帶動的回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上配有行星齒輪機(jī)構(gòu),行星齒輪傳動轉(zhuǎn)盤上懸掛著四個夾頭;夾頭用于夾持工件(如刀具、珠寶、首飾、表殼、醫(yī)療器械等工件)。轉(zhuǎn)盤通過夾頭帶動工件進(jìn)行公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn),每個夾頭都可以單獨(dú)進(jìn)行旋轉(zhuǎn);夾頭之間有一定間隙,杜絕了研磨時工件的相互碰撞。研磨作業(yè)時,旋轉(zhuǎn)的夾頭帶著工件緩慢向下插入到磨料桶中,直入工件需要加工的部分完全浸入磨料桶內(nèi)。回傳機(jī)構(gòu)在高速的旋轉(zhuǎn)過程中,工件與磨料產(chǎn)生無序、不間斷地摩擦,從而實現(xiàn)工件鈍化、研磨、拋光的效果。



流體拋光產(chǎn)品研磨


流體拋光


流體拋光依靠高速流動的液體和磨粒來清洗工件表面,以達(dá)到拋光的目的。通常的方法包括磨料射流加工、液體射流加工、流體動力磨削等。流體動力磨削是由液壓驅(qū)動的,它使載有磨料顆粒的液體介質(zhì)以高速流過工件表面。介質(zhì)主要由在低壓下流動性好的特殊化合物(聚合物材料)制成,并與磨料混合。磨料可由碳化硅粉末制成。


鋅壓鑄件中有害雜質(zhì)鉛、鎘、錫會聚集在晶界處,引起晶間腐蝕。金屬基體會因晶間腐蝕而斷裂。電鍍加速了這一缺點。受晶間腐蝕影響的零件會膨脹,涂層會抬起,導(dǎo)致鋅合金壓鑄件表面起泡。


高質(zhì)量、高精度鋁合金鑄件可用于航空航天、汽車、精密機(jī)械等鑄件。鋁合金壓鑄制造商重視鑄件的精度和質(zhì)量。冷卻水在生產(chǎn)中經(jīng)常使用,這與質(zhì)量和精度有關(guān)。